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博思数据发布的《2021-2027年我国CMP抛光液商场剖析与职业调查陈述》介绍了CMP抛光液职业相关概述、我国CMP抛光液工业运转环境、剖析了我国CMP抛光液职业的现状、我国CMP抛光液职业竞赛格式、对我国CMP抛光液职业做了要点企业经营情况剖析及我国CMP抛光液工业开展远景与出资猜测。您若想对CMP抛光液工业有个体系的了解或许想出资CMP抛光液职业，本陈述是您不可或缺的重要东西。
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博思数据发布的《2021-2027年我国CMP抛光液商场剖析与职业调查陈述》介绍了CMP抛光液职业相关概述、我国CMP抛光液工业运转环境、剖析了我国CMP抛光液职业的现状、我国CMP抛光液职业竞赛格式、对我国CMP抛光液职业做了要点企业经营情况剖析及我国CMP抛光液工业开展远景与出资猜测。您若想对CMP抛光液工业有个体系的了解或许想出资CMP抛光液职业，本陈述是您不可或缺的重要东西。
抛光液是一种不含任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂，具有杰出的去油污，防锈，清洗和长脸功能，并能使金属制品超越原有的光泽。产品功能安稳、无毒，对环境无污染。抛光液的首要产品能够按首要成分的不同分为以下几大类：金刚石抛光液（多晶金刚石抛光液、单晶金刚石抛光液和纳米金刚石抛光液）、氧化硅抛光液（即CMP抛光液）、氧化铈抛光液、氧化铝抛光液和碳化硅抛光液等几类。CMP抛光液的首要作用是为抛光目标供给研磨及腐蚀溶解。
更先进的逻辑芯片工艺会要求抛光新的资料，为CMP抛光资料带来了更多的增加时机，例如14nm以下逻辑芯片工艺要求的要害CMP工艺将到达20步以上，运用的抛光液将从90nm的五六种抛光液增加到二十种以上，品种和用量迅速增加；7nm及以下逻辑芯片工艺中CMP抛光过程乃至或许到达30步，运用的抛光液品种挨近三十种。此外，存储芯片由2DNAND向3DNAND技能革新，也会使CMP抛光过程近乎翻倍。即使是同一技能节点，不同客户的技能水平和工艺特色不同，对抛光资料的需求也不同。
2017年，我国CMP抛光液消费量到达了2137万升，估计2025年将到达9653万升。
第八章 2015-2019年我国CMP抛光液职业上下游首要职业开展现状剖析
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